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雙輥多腔室磁控卷繞真空鍍膜機

雙輥多腔室磁控卷繞真空鍍膜機

雙輥多腔室磁控卷繞真空鍍膜機


產品詳情

設備簡述:TS-JRC系列雙輥多腔卷繞鍍膜機是專門面向高性能多層膜產品鍍膜而開發的連續式卷繞鍍膜設備,設備為雙輥多室結構,設備配置兩個鍍膜室,有多達12個靶位,最多可以安裝24支陰極。可以實現復雜膜系或者厚膜的制備。


設備應用:適用于在柔性基材如:PET/PEN/PI/PC/PE等有機薄膜或金屬卷材、超薄玻璃等柔性材料表面采用磁控濺射工藝沉積Cu、Ag、Cr、Ni、Au、Si、ITO等導電膜或者NiCr、NiCu、InSn等合金膜或者SiO2、Nb2O5、Al2O3等介質膜多層功能性或裝飾性膜層。鍍膜的產品可以應用在ITO透明導電膜、汽車/建筑窗膜、AR膜、彩色膜、透明高阻隔膜、電磁屏蔽膜和薄膜太陽能電池電極等等領域。在汽車、觸摸屏、平板顯示、薄膜太陽能電池、鋰電池、柔性線路板、建筑節能等產業中有著廣泛的用途。


設備特點:本機型是通過引進德國技術并進行進一步改良設計而成。設備裝、卸料時鍍膜室可保持真空狀態,有效提高生產效率的同時還能夠保證更穩定的鍍膜品質。多達12個鍍膜腔室、24支磁控靶位,鍍膜腔室間隔氣良好,適合多層膜的鍍制工藝。設備具有產能大、穩定性強、重復性優、運行成本低等特點。可根據工藝要求配置:在線膜厚或電阻檢測系統、閉環鍍膜監控系統等裝置,以滿足更高要求的鍍膜需求。

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